Он уточнил, что к 2026 году будет запущен литограф, который может обеспечить создание чипов на 130 нанометров, а следующей станет разработка 90-нанометрового литографа.

"Дальше будем идти поступательно на 90 нанометров и ниже. Поэтому не останавливаемся здесь", - сказал Шпак.

По его словам, первый российский литограф, обеспечивающий выпуск чипов размером до 350 нм, уже создан и проходит испытания.